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中科鸿泰
产品
针对行业需求 选你所需的硅油产品
抛光剂
Polishing Agent产品型号：CN-1173
抛光效果好
高浓度与低沾污
广泛的适应性
良好的稳定性
01
产品概述
OVERVIEW产品简介
抛光剂作为一种高性能的抛光材料，本产品专为加工领域设计，能够提升抛光效率与表面质量，广泛应用于半导体、集成电路、光学玻璃、陶瓷、金属表面处理等多个行业。
02
应用领域
APPLICATION SCOPE半导体芯片行业
- •芯片铜布线层
- •化学机械抛光
- •均匀磨除表层凸起
光学玻璃镜片
- •光学玻璃镜片
- •镜头透镜
- •玻璃盖板
五金精密加工行业
- •不锈钢冲压件
- •铝合金配件
- •精密模具
03
产品特点
MAIN FEATURES1.抛光效果好：具有非常好的分散性和稳定性，能够在抛光过程中均匀分布，可去除表面缺陷，实现高精度抛光。
2.高浓度与低沾污：产品纯度高，杂质含量低，能够减少抛光过程中对工件的沾污，提升产品的清洁度和可靠性。
3.广泛的适应性：可与多种抛光垫和合成材料配合使用，适应不同材质和加工要求，提供定制化的抛光解决方案。
4.良好的稳定性：在多种温度条件下保持性能稳定，不易变质，确保长期使用的效果一致性。
04
使用方法
USAGE抛光剂：根据具体的应用对象和应用环境而定。
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储存与包装
STORAGE AND PACKAGING包装：本品采用50KG、200KG桶装。
贮运：按一般化学品贮存和运输。未使用完前，每次使用后必须将容器严格密封。 保质期二年。
06
常见问题
FAQ金属粗抛：原液或者兑水 1‑2 倍；精抛兑水 3‑8 倍；半导体、光学玻璃按照厂家工艺配比稀释；正式投产前做小样试验确定稀释倍数。
高浓缩配方可稀释使用，耗材投入可控；减少工件报废率，缩短抛光耗时，提高设备产出，长期使用综合生产成本更低。
普通抛光液里面杂质偏多，精密工件容易产生划痕；CN‑1173 纯度高，分散性好，适合高精度镜面抛光；缺点是原液浓度较高，必须合理稀释，不然容易出现药剂残留。
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